【48812】北方华创立异推出高介电常数原子层堆积设备并获业界认可
发布时间：2024-06-08 11:08:48 来源：小九直播体育直播平台
近期，北方华创002371）12英寸高介电常数原子层堆积设备Scaler HK430完成安稳量产，取得批量订单，市占率不断攀升，赢得客户信赖。这标志着北方华创CVD（化学气相堆积）先进工艺设备解决方案的成功使用，为华创进一步拓展高端设备赛道注入新的动力。
为了打破晶体管尺度微缩的工艺瓶颈，业界选用新式High-K资料HfO2（氧化铪）作为栅介质层，结合金属栅极技能，研宣布HKMG(High-K/Metal Gate高介电常数/金属栅极)工艺。该工艺在45nm及以下节点占有中心位置，CVD/ALD（原子层堆积）工艺设备成为HKMG工艺的重要支撑。北方华创凭仗多年的原子层堆积技能堆集，立异推出12英寸高介电常数原子层堆积设备Scaler HK430，凭仗抢先的功能优势、产能优势，以及使用于国内12英寸干流Fab（半导体制作）厂的实践经验，成为国内HiK量产生产线的主力机台。
未来，北方华创将矢志不渝地加速科学技能立异的实践脚步，不断推进CVD先进工艺设备的布局研制，为半导体职业的多元化技能需求供给更高效的解决方案，推进半导体配备制作技能的开展迈向新高度。
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